- 저비중 전도성 분말 제조방법 및 저비중 전도성 분말
- 국제 특허분류 : C23C-018/16, C08J-003/12, C09D-005/08, C23C-018/24, C23C-018/34, C25D-003/22, C25D-007/00
- 출원번호/일자 : 10-2019-0033675 (2019/03/25)
- 공개번호/일자 : 10-2020-0113461 (2020/10/07)
- 출원인 : 주식회사 엠엠에스
- 본 발명은 저비중 전도성 분말 제조방법 및 저비중 전도성 분말에 관한 것이다. 전도성 분말 제조방법은, 50㎛ 이하의 평균 입경을 갖는 플라스틱분말을 준비하는 플라스틱분말 준비단계와; 상기 플라스틱분말의 표면 거칠기를 조절하는 스크레칭단계와; 상기 스크레칭단계를 완료한 플라스틱분말의 표면에, 목표 두께의 징케이트층을 형성하는 징케이트 코팅단계와; 상기 징케이트 코팅단계를 통해 형성된 징케이트층에, 무전해도금 방식을 통해 전도층을 적층하는 무전해 도금단계와; 상기 무전해 도금단계의 완료 후, 상기 전도층에 산화방지층을 적층하는 표면처리단계를 포함한다.상기와 같이 이루어지는 본 발명의 저비중 전도성 분말 제조방법 및 저비중 전도성 분말은, 플라스틱 볼의 무전해도금을 위한 표면 활성화를 위하여 고가의 촉매를 사용하지 않으므로, 제조 원가가 크게 절감되며 촉매를 사용한 경우보다 상대적으로 균일한 표면층과 우수한 전도특성을 구현할 수 있다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
