• 전도성 고분자 조성물, 이를 포함하는 전도성 필름 및 전도성 필름의 제조방법
• 국제 특허분류 : C08L-065/00, C08K-005/41, H01B-003/30, C08J-005/18
• 출원번호/일자 : 10-2013-0089497 (2013/07/29)
• 공개번호/일자 : 10-2015-0014168 (2015/02/06)
• 출원인 : 한국생산기술연구원
• 본 발명은, 전도성 고분자 조성물, 전도성 고분자 필름 및 전도성 고분자 필름의 제조방법에 관한 것으로, 폴리티오펜계 전도성 고분자 및 하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
  [화학식 1]
  
  (여기서, R은 수소 또는 C₁ 내지 C₁₀의 알킬기 중 하나이고, R'는 수소 또는 C₁ 내지 C₆ 알킬기 중 하나임)
  상기 전도성 고분자 조성물은 투과도가 우수하면서도 전도도가 현저히 향상되어 우수한 물성을 가지는 투명전극을 구현할 수 있는 효과가 있다.
• 원문링크 : KISTI NDSL

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