한국화학공학회 2013년 봄학술대회 3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas 조덕균1, 최광성1, 육영근1, 이세아1, 천푸름1, 유동훈2, 장원석3, 임연호1 (1전북대, 2경원테크, 3국가핵융합(연)) 목록보기 목록보기
