| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 | 28권 2호, p.88 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | High-Strength Polysilsesquioxanes for Nanoporous Low-Dielectric Films |
| 초록 | There exists a strong need to develop new low-dielectric (k |
| 저자 | 노현욱1, 김진범1, 이진규1, 이희우2, 차국헌1, 윤도영1, David W. Gidley3 |
| 소속 | 1서울대, 2서강대, 3Department of Physics |
| 키워드 | low-k; silsesquioxane |
