| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2004년 봄 (04/09 ~ 04/10, 고려대학교) |
| 권호 | 29권 1호, p.201 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | Patterned Fluorescence Images with a t-Boc-Protected Coumarin Derivative |
| 초록 | 최근 광식각을 이용한 기능성 패턴 및 이미지 형성 기술에 많은 관심과 응용이 이루어지고 있다. 광식각에 의한 패턴 및 이미징 기술에서 주로 사용 되어지는 방법은 먼저, 포토마스크를 이용하여 빛이 노광 된 부분에 작용기(functional group)를 도입시키고 그 다음 기능성 염료(functional dye)와 반응시켜 패턴을 얻는 “two step procedure”이다. 그러나 이러한 “two step procedure”에 의한 패턴 형성은 dye분자들이 고분자 매트릭스로 침투하기가 쉽지 않아서 고분자의 표면에서만 반응이 일어나는 경우가 대부분이다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 wet developing 과정이 필요없이 전구체(precursor)를 이용한 direct imaging 방법을 개발하였다. 본 연구에서는 t-BOC으로 보호된 coumarin 유도체를 합성하고 PMMA, 광산발생제(photo acid generator)를 혼합한 후 스핀코팅으로 얇은 박막을 만든 후 포토 마스크를 사용하여 자외선으로 노광 시킨 결과 형광 현미경하에서 마이크로 사이즈의 패턴화된 이미지가 형성됨을 관찰하였다. |
| 저자 | 민성준, 김종만 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | patterned Fluorcence image |
