| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2017년 봄 (05/10 ~ 05/12, 광주 김대중컨벤센센터(Kimdaejung Convention Center)) |
| 권호 | 21권 1호 |
| 발표분야 | 전기화학 |
| 제목 | Crack-free hard chromium 도금을 얻기 위한 Pulse-reverse 전기 도금의 변수 최적화 |
| 초록 | 6가 크롬의 전기도금은 높은 경도와 내부식성, 내마모성을 가지고 있어 많은 산업 분야에 사용되고 있으며, 밝은 광택을 오랜 시간 유지할 수 있다는 점에서 장식용 도금에도 사용 되고 있다. 하지만 6가 크롬의 전기도금은 도금을 하는 과정에서 생기는 HER 반응과 내부응력에 의해 표면에 광범위한 크랙이 발생한다는 문제점을 가지고 있으며, 이것은 내부식성을 감소시키는 원인이 된다. 본 연구에서는 도금된 크롬의 내부식성을 향상시키기 위해 표면의 크랙을 줄이는 전기 증착 방법인 pulse-reverse 전기도금 방법을 이용하였고, 도금 조건의 변수 최적화를 통해 도금 표면의 광택과 경도를 유지하도록 하였다. 모든 시료들은 첨가제인 HY-30이 첨가된 sargent 욕에서 전기도금을 하였다. 도금된 크롬 표면의 구조와 crack density를 알아보기 위해 Optical microscope (OM) 분석을 진행하였고, 도금된 Cr의 두께를 측정하기 위해 X-ray fluorescence (XRF) 분석을 진행하였다. 또한, 도금된 표면의 경도를 알아보기 위해 미소경도기를 측정하였으며, 전류 효율은 도금 전과 후의 질량 차이와 이론적으로 계산된 질량을 이용하여 측정하였다. |
| 저자 | 서동조, 김지은, 김상득, 최영일, 남대현, 백성현 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | hexavalent Chromium; pulse-reverse electroplating; Crack-free chromium |
