| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, 삼척 팰리스 호텔) |
| 권호 |
16권 1호 |
| 발표분야 |
G. Display (LCD, PDP, OLED) Materials(디스플레이 재료) |
| 제목 |
양극산화법을 이용한 패턴된 AAO기판의 제조 |
| 초록 |
현재 나노미터 크기의 미세구조물을 제작할 수 있는 가장 큰 적합한 기술로는 알루미늄을 이용한 양극산화법(AAO:anodic aluminum oxide)이다. 최근 일반적인 금속표면 처리법으로 널리 사용되던 양극산화법은 알루미늄을 이용하여 수직하고 일정하게 배열된 수십 내지 수백 나노미터 크기의 미세기공을 갖는 알루미나 구조체를 제작할 수 있기 때문에, 현재 여러 분야에서 이를 적용시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히 알루미늄 기판에 패턴된 AAO를 성장시킴으로써 알루미늄 기판에 패턴된 알루미나 절연체가 형성되어 기존의 Laminate, ceramic기판보다 우수한 효율을 보일수 있는 장점이 있다. 본 연구에서는 알루미늄 기판에 photolithography공정을 이용하여 패터닝 후 그 패턴된 영역에 양극산화법을 이용하여 AAO를 성장시켰다. 그 후 패턴된 AAO의 미세구조를 확인하였다. |
| 저자 |
윤형철, 김남정, 서수정
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| 소속 |
성균관대 |
| 키워드 |
양극산화법; AAO기판
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