| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | 분무열분해법을 이용한 형광막의 제작 및 특성 고찰 |
| 초록 | 차세대 디스플레이의 응용분야로 제시되는 투명 소자(transparent devices)는 건축물의 창문을 비롯한 광고용 디스플레이뿐만 아니라 투명 네비게이션, 투명 모니터로의 적용이 가능하여 새로운 시장분야의 창출이 가능하다. 이러한 디스플레이 소자 중 자발광형 단순 구조를 가지는 “투명 PDP 소자”는 상용화가 상대적으로 유리하며, 소자의 핵심소재인 투명형광막은 고효율의 발광특성 및 높은 투과도특성을 갖는 막을 요구한다. 지금까지 알려진 대표적인 성막 공정은 physical vapour deposition (PVD), chemical vapour deposition (CVD)등 진공 공정을 이용하는 방법과 spray pyrolysis (SP), sol-gel 법 등 용액공정을 기반으로 하는 방법 등이 있다. 이 중 SP는 세라믹과 파우더를 막으로 생성하기 유리하다고 알려져 있다. 또한 SP는 제조 공정이 단순하며 생산비용이 싸다는 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 SP 방법을 이용하여 VUV 영역에서 우수한 발광특성을 가지고 있는 Zn2SiO4:Mn을 유리 기판에 증착시킨 후 후열처리를 통해 형광막을 제작하였다. 기판 온도의 변화, mol 농도의 변화, Zn precursor의 변화를 통해 발광특성 및 투과도가 우수한 형광막을 제작하였다.147 nm 여기 하에서 분말형광체 대비 약 40%의 상대휘도 가시광 영역에서 최대 50%의 투과율 갖는 기판을 제조하였다. 그리고 증착된 형광막의 입자 특성을 XRD, SEM을 이용하여 분석하였다. |
| 저자 | 김경운, 최성호, 정하균 |
| 소속 | 화학(연) |
| 키워드 | 분무열분해법; 형광막 |
