| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2021년 봄 (05/12 ~ 05/14, 부산 벡스코(BEXCO)) |
| 권호 |
25권 1호 |
| 발표분야 |
포스터-디스플레이 |
| 제목 |
Printing 기술에 접목 가능한 높은 전도성 및 안정적인 잉크로서의 응집 저항성 MXene 나노 시트 |
| 초록 |
MXene은 금속에 대한 전도도 및 높은 광학 투명성을 포함하는 우수한 광전자 특성으로 인해 전자 및 에너지 장치 응용 분야에서 매력적인 재료로 간주되는 2D 재료이다. 그러나 합성된 MXene nano sheet는 많은 용매에 대한 용해도가 제한적이기 때문에 간단한 용액 증착 및 패턴 인쇄화 공정은 어려움을 겪고 있다. 이 연구에서 MXene nano sheet 층상에 Trifluoroacetic acid(TFA) 처리를 통해 알코올류 용매에서의 장기 분산과 패턴 인쇄화를 위한 균일한 분사를 가능하게 했다. 또한 처리 된 MXene의 높은 전도도로 인해 인쇄 된 논리 회로에서 게이트 및 소스 / 드레인 전극으로 적용되어 트랜지스터, 인버터, NAND 및 NOR 논리 게이트에서 우수하고 견고한 작동을 확인할 수 있었다. 따라서 이 연구는 대 면적 인쇄 공정에 적합한 MXene nano sheet로 변경하기 위한 접근 방식을 제공하며, 모든 인쇄 전자 장치와 관련된 실제 응용 분야에서 MXene을 사용할 수 있음을 이야기한다. 이 연구는 2021년도 정부(산업통상자원부)의 재원으로 한국산업기술진흥원의 지원과 한국교통대학교의 지원을 받아 수행된 연구임. |
| 저자 |
이휘영, 인인식, 박성민, 이성은, 김지영, 손하아린, 김예진, 강병인, 박은지
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| 소속 |
한국교통대 |
| 키워드 |
MXene; Trifluoroacetic acid; Surface modifying; 패턴 인쇄화
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| E-Mail |
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