화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2017년 봄 (04/26 ~ 04/28, ICC 제주)
권호 23권 1호, p.310
발표분야 미립자공학
제목 열플라즈마를 이용한 은이 코팅된 니켈 입자의 제조
초록 본 연구에서는 비이송식 직류 열플라즈마를 이용하여 표면에 은 나노 입자가 코팅된 구형 니켈 입자를 제조하였으며, 원료로는 마이크로 사이즈의 은-니켈 혼합분말을 사용하였다. 은-니켈 혼합분말은 아르곤 열 플라즈마 제트로 주입되며, 열 플라즈마의 높은 온도에 의해 급격하게 용융되며 기화한다. 이 과정에서 은은 높은 열 전도도와 상대적으로 낮은 끓는점(2,435 K)을 지니고 있으므로 쉽게 기화한 후 재결정되어 나노 입자를 이룬다. 한편, 니켈은 상대적으로 낮은 열 전도도(90.9W/m·K)와 높은 끓는점(3,003K)으로 인하여 완벽하게 증발되지 못하고, 융해되어 마이크로 사이즈의 구형입자 형태로 얻어진다. 최종적으로, 열 플라즈마에 의해 증발된 은은 열 플라즈마 제트의 급격한 온도구배에 의해 마이크로 사이즈의 니켈 구형입자 표면에 나노 입자로 응축되어 표면을 코팅하게 된다. 본 연구에서는 은과 니켈의 비율을 1:10에서 1:1까지 수정하면서 구형 니켈입자에 코팅된 은의 두께를 FE-SEM, TEM, XRD를 이용하여 측정하였으며, XPS 분석을 통해 니켈과 은의 결합구조를 관찰하였다. 결론적으로 코팅된 은의 두께는 주입되는 니켈에 대한 상대적인 은의 비율이 늘어남에 따라 증가함을 확인할 수 있었다.
저자 이병진, 허운선, 박시택, 박동화
소속 인하대
키워드 미립자
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원문파일 초록 보기