| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 봄 (04/24 ~ 04/25, KOEX) |
| 권호 | 4권 1호, p.1645 |
| 발표분야 | 에너지/환경 |
| 제목 | 저온·저압에서의 선택적 시클로헥산의 산화반응 특성연구 |
| 초록 | 탄화수소를 부분산화시켜 알코올이나 케톤을 얻는 산화공정은 물질에 따라 조금씩은 다르지 만 고온, 고압에서 공기 혹은 산소를 산화제로 사용하고 있다. 이중 카프로락탐 생산량의 90%는DSM, BASF, Inventa, Bayer, Zimmer법 등을 통하여 시클로헥산을 고온 (160℃), 고압(8 atm)에서 공기산화시켜 얻는 시클로헥산온을 원료로 사용한다. 이 산화반응은 산화력이 저온산화시스템에 비해 대단히 낮은 산소라디칼을 고온에서 활성화시켜 사용하기 때문에 선택성이 낮은 단점을안고 있다. 이 문제를 해결하기 위하여 저온산화시스템의 개발 필요성이 대두 되었다. 본 연구팀에서도 Gif- KRICT시스템을 거쳐 KRICT 시스템을 개발하였다. 이 KRICT시스템에서는 일례로시클로헥산을 상온, 상압에서 3시간 반응시켜 전환율 5%, 선택율 95%로 시클로헥산올과 시클로헥산온을 얻는 획기적인 결과를 얻었다. 그러나 이제까지의 연구에서는 반응성을 위주로 촉매의스크리닝에 초점을 맞추어 왔기 때문에 공정상의 문제점이나 안전성에 대한 체계적인 연구가 없었다. 본 연구에서는 반응공정 개발을 목적으로 반응의 규모를 30 ml 규모에서 약 300 및 1000ml 규모로 확대시키고 산화단계에서의 폭발가능성등의 문제점을 파악하고 이를 해결하기 위한기초연구를 수행하였다. |
| 저자 | 홍지숙, 이상봉, 전기원, 김성보, 남상성, 최명재, 이규완 |
| 소속 | 한국화학(연) |
| 키워드 | oxidation; cyclohexane |
| 원문파일 | 초록 보기 |
