| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2006년 가을 (11/10 ~ 11/11, 경희대학교(수원캠퍼스)) |
| 권호 |
10권 2호 |
| 발표분야 |
나노기술 |
| 제목 |
Porous alumina prepared by nanoimprint lithography |
| 초록 |
다공성 알루미나의 제조는 그 자체가 photonic crystals로 이용될 수 있을 뿐아니라 nanowires나 nanotube를 제조하기 위한 templates으로 사용되기 때문에 최근 많은 그룹에서 관심을 가지고 있다. 일본 Masuda 그룹에서 개발한 2-step 공정은 자기정렬된 다공성 알루미나를 얻기 위해서 낮은 온도에서 장시간 양극산화를 통하여 다공 정렬정도가 증가하는 원리를 이용하고 있으나 이를 통해 넓은범위에서 정렬도를 증가시키기는 매우 어렵다. 그럼으로, 이러한 polydomain 다공성 알루미나는 적용범위가 제한적이다. 본 발표에서는 완벽하게 다공성 알루미나의 제조를 위한 nanoimprint 공정을 소개하고 이를 이용한 다양한 다공성 알루미나 제조법에 대하여 논의하고자 한다. |
| 저자 |
최진섭1, R. B. Wehrspohn2, U. Goesele2, 김경자1
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| 소속 |
1요업(세라믹) 기술원, 2Max-Planck-Inst. of Microstructure Physics |
| 키워드 |
AAO(Anodic alumina oxide); Self-assembly; Embossing
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| E-Mail |
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