| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.745 |
| 발표분야 | 분리기술 |
| 제목 | CVD법에 의해 Alumina 지지관상에 제조된 변형 silica 막의 CO2 분리특성(2) |
| 초록 | 비교적 큰 세공을 가진 α-alumina 지지관의 세공제어 및 표면개질을 행하기 위하여 Si-Source인 TEOS(Tetraethylorthosilicate)에 ethanol, H2O, HCl을 첨가하여 CVD법에 의해 silica 막을 합성하고 CO2, N2 기체의 투과특성을 조사하였다. 또한 α-alumina 관 위에sol-gel 법에 의해 γ-alumina film을 coating 하여, γ-alumina 지지체상에 합성한 silica막의 CO2, N2 기체투과실험을 행하고 분리능에 영향을 미치는 인자를 조사하여 CO2/N2분리막 제조의 최적조건을 도출하였다. |
| 저자 | 김성수, 최현교, 박홍채, 서봉국 |
| 소속 | 지산대 |
| 키워드 | 실리카막; CO2분리; CVD |
| 원문파일 | 초록 보기 |
