| 초록 |
비전통적 방식의 리소그라피 기술은 광학장비에 의존하는 기존의 노광공정과는 달리 나노크기의 패턴과 구조체를 쉽게 제조할 수 있는 이점이 있다. 그 중에 프린팅 기술은 순차적인 전사공정에 의해 3차원의 구조체 제작이 가능하기 때문에 많은 분야에서 연구가 진행되고 있다. 본 발표에서는 나노물질의 자기조립 특성을 이용한 박막제조 방법으로 활용되고 있는 Layer-by-layer assembly of polyelectrolytes multilayer를 이용하여 기판상에 원하는 고분자 재료의 패턴을 전사 프린팅하는 기술과 이를 제어하는 공정 변수에 대하여 연구한 내용을 보고하고자 한다. 고분자 박막의 전사공정의 경우, 팽윤된 고분자 유체의 wetting 특성에 의해서 형성되는 메니스커스와 이로 인해 발생하는 모세관력 이동 존재하며, 이로 인해 박막의 두께, 패턴간의 간격, 팽윤 고분자의 유효 점도치가 중요한 공정변수로 작용한다. 이의 조절을 통해서 한 가지 패턴을 이용해서도 양각/음각의 정반대의 패턴을 선택적으로 기판상에 형성할 수 있는 기술을 개발하였다. 향후 본 기술은 플렉서블 기판위의 고분자 패턴 제작 및 광학패턴의 제조에 활용될 수 있을 것으로 기대된다. |
