| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교) |
| 권호 | 7권 2호, p.4923 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저유전체 박막의 제조 및 특성 |
| 초록 | 본 연구에서는 SiH4와 CF4를 이용하여 저유전체 박막을 증착하고 조성가스의 유량, 증착 온도 및 RF power와 같은 공정변수를 변화시키며 증착된 박막의 증착속도, 유전상수 및 화학적 특성에 대해서 연구하였다. |
| 저자 | 김태희, 홍주형, 한윤봉 |
| 소속 | 전북대 |
| 키워드 | PECVD; low-k |
| 원문파일 | 초록 보기 |
