| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2014년 봄 (04/30 ~ 05/02, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 |
18권 1호 |
| 발표분야 |
포스터-무기재료 |
| 제목 |
급속 소결 공정을 이용한 RF plasma sputtering용 HAp 타겟 제조 및 기계적 특성 평가 |
| 초록 |
현재 치과나 정형외과 임플란트에 사용되는 티타늄 소재는 우수한 생체친화성을 갖고 있기 때문에 티타늄으로 제조된 임플란트는 높은 임상성공률을 보이고 있다. 그러나 티타늄에는 생체활성이 없고 이로 인해 골 생성반응이 느려 치유기간이 길고 골과 임플란트 사이의 부착력이 약하다는게 단점으로 알려져 있다. 이를 해결하기 위해 골 생성반응을 촉진시켜 치유기간을 단축시키고 골과 임플란트 계면의 부착력을 증가시키기 위한 방법으로 티타늄 표면에 수산화아파타이트(Ca10(PO4)6(OH)2)를 코팅하는 기술이 대두되고 있다. 따라서 본 연구에서는 PVD 코팅방법 중 하나인 RF plasma 코팅 기술에 사용될 스퍼터링 타겟을 제조하는게 목적으로 신 성형공법인 방전플라즈마 소결 공정을 이용하여 단일공정으로 단시간에 RF plasma 코팅 타겟의 특성에 맞는 고밀도, 고순도 및 내외부 물성이 균일한 스퍼터링 타겟을 제조하였다. Hap 소결 온도는 약 1200℃에서 이루어 졌으며 승온속도는 100℃/min, 압력은 60MPa로 제조되었고 공정시간은 약 15min으로 진행되었다. 제조된 타겟은 미세조직, 상분석, 기계적 특성 등을 분석하기 위해 FE-SEM, Archimedes, XRD, Vicker’s hardness로 조사하였다. |
| 저자 |
장준호1, 박현국1, 오익현1, 정운조2, 강병모2, 안호근3
|
| 소속 |
1한국생산기술(연), 2(주)오티앤티, 3순천대 |
| 키워드 |
HAP; SPS; sputtering target; biomaterial
|
| E-Mail |
|
