| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2021년 봄 (05/12 ~ 05/14, 광주 김대중컨벤션센터) |
| 권호 | 27권 1호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 분과 |
| 제목 | AZO/Cu/AZO의 Cu의 두께와 열처리 온도에 따른 전기적∙광학적∙구조적 특성 |
| 초록 | 본 연구에서는 p-Si, sodalime glass 기판 위에 AZO/Cu/AZO 박막을 증착한 후 RTP를 이용하여 열처리를 진행하였다. 그 후 열처리온도에 따른 AZO/Cu/AZO 박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성을 평가하였다. P-type si 기판을 아세톤, 에탄올, DI water로 각 10분 간 세척한 후에 RF Sputter에 로딩 하였다. 그 후 Ar 분위기에서 RF 출력을 200W로 고정을 하며 먼저 AZO를 30nm 증착 한 후에 Cu는 4 ~ 12nm 두께로 증착하였다. 그런 다음 AZO를 30nm 증착하였다. 이후 RTP를 이용하여 질소 분위기에서 100 ℃ ~ 400 ℃의 온도 범위에서 5분 동안 열처리하였다. 박막의 전기적 특성과 광학적 특성과 구조적 특성은 홀 효과, 광 루미네센스 (PL), X선 회절 (XRD)를 측정하여 조사하였다. XRD 분석을 통해 AZO는 (100)면, Cu는 (111)면으로 Cu 두께가 증가 할수록 XRD 회절선의 피크 강도가 증가하였다. 열처리 온도에 따른 AZO, Cu의 XRD 회절선 피크를 평가하였다. Hall effect 장비를 통해 AZO/Cu/AZO 구조의 전기적 특성을 분석하였으며 Cu의 두께가 증가 할수록 이동도, 전기전도도가 증가하는 것을 확인하였고 비저항은 감소하는 것을 확인하였다. |
| 저자 | 강찬희, 이상익, 임규민, 임상철, 이택영 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | AZO; RF Sputter; RTA; XRD; Hall Effect; PL |
