| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2019년 봄 (05/15 ~ 05/17, 평창 알펜시아 리조트) |
| 권호 |
25권 1호 |
| 발표분야 |
A. 전자/반도체 재료 분과 |
| 제목 |
A Novel Method to Evaluate the Catalyst Effect on the Performance of W CMP Process |
| 초록 |
텅스텐(W)은 반도체 제조에서 금속배선에 사용되고, 첨단 노드 장치 제작에서 컨택(contact)을 위해 널리 사용되는 금속이다. 일반적으로, 텅스텐 CMP 슬러리에는 텅스텐 표면의 효과적인 연마를 위하여 철(Fe) 기반의 촉매제가 포함되어 있다. 이 촉매제는 과산화수소를 분해시켜 높은 산화력을 갖는 수산화기체의 생성을 촉진하는 역할을 한다. 하지만, 텅스텐 CMP는 다양한 조건에서 촉매의 효율을 평가하는 것이 복잡하다. 따라서, 이를 단순화하기 위한 텅스텐 CMP 촉매 효율 평가에 대한 연구가 필요하다. 본 연구에서는 텅스텐 CMP 슬러리에서의 촉매 효율을 평가하기 위해, Fe 기반 촉매를 포함한, 콜로이달 실리카 기반의 텅스텐 슬러리 (nanocatalyst)를 사용하였다. 또한, 과산화수소의 분해로 생성된 산소기체에 의한 압력증가는 멤브레인(membrane)형 기체 압력 센서(GPS-BTA, Vernier Software & Technology, USA)에 의하여 분석되었다. 결과적으로, 과산화수소에 촉매가 첨가됨에 따라, 온도와 촉매 농도에 비례하여 과산화수소의 분해율이 급격히 증가하였다. 따라서, 이 기체압력센서를 이용한 방법은 텅스텐 CMP 슬러리 촉매에 대한 정량적인 평가와 텅스텐 CMP의 결과에 활용될 수 있다. |
| 저자 |
한소영1, 정연아1, 류헌열1, Maneesh Kumar Poddar1, Nagendra Prasad Yerriboina1, 김재현2, 박종대2, 이민건2, 박창용2, 한성준2, 김명준2, 박진구1
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| 소속 |
1한양대, 2Dongjin Semichem Co.Ltd. |
| 키워드 |
Tungsten Chemical-Mechanical Polishing Slurry; Catalyst; Temperature; H2O2 decomposition; Gas pressure sensor
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