화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교)
권호 7권 2호, p.3807
발표분야 분체공학
제목 분무건조법으로 표면 개질된 실리카 제조 및 형상제어
초록 본 실험을 통해 OTS와 흄드실리카의 표면 반응은 낮은 온도에서 모두 일어나며 응집 또한 적게 일어나고, 소수성 증가와 응집이 일어나지 않는 형상을 최적시키는 적정 농도가 존재함을 알 수 있었다. 또한 표면개질된 입자의 크기나 응집정도가 소수성 성질에 많은 영향을 준다.
저자 송신애1, 정윤섭2, 박승빈, 주원홍
소속 1한국과학기술원 화학공학과, 2동양화학공업(주)중앙(연)
키워드 fumed silica; organosilane; hydrophobicity
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