| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2010년 가을 (10/27 ~ 10/29, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 14권 2호 |
| 발표분야 | 정보.전자소재 |
| 제목 | 유무기 하이브리드 중합체를 이용한 하드마스크에 관한 연구 |
| 초록 | 현재 미세 나노패턴의 형성을 위하여 여러층(α-carbon/SiON/BARC)의 하드마스크가 사용되고 있다. 이에 본 연구에서는 감광층 보다 하드마스크가 쉽게 식각되도록 하드마스크 성분에 무기계를 갖는 동시에 substrate이 하드마스크 보다 식각이 유리하도록 유기계 성분을 가지는 유무기 하이브리드 소재를 택하여 single-layer 형태의 하드마스크 적용에 관해 연구하였다. 감광층과의 식각선택비를 비교하기 위하여 여러 형태의 유무기 중합체를 합성하여 식각비를 비교하였다. |
| 저자 | 유제정1, 이경균1, 이성구1, 황석호2, 김상범1 |
| 소속 | 1한국생산기술(연), 2단국대 |
| 키워드 | 하드마스크; 하이브리드 중합체; Dry Etching |
