| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2016년 봄 (05/02 ~ 05/04, 여수 엑스포 컨벤션) |
| 권호 |
20권 1호 |
| 발표분야 |
디스플레이_포스터 |
| 제목 |
디스플레이 제조 식각공정에서 세라믹 코팅재료와 플라즈마 변수의 상호관계 연구 |
| 초록 |
디스플레이 식각공정은 플라즈마를 활용하여 미세회로패턴을 구현하는 공정이다. 플라즈마 공정장비는 디스플레이 생산을 위해 연속적으로 쉬지 않고 가동을 하게 된다. 이때, 식각장비 구성 부품들은 플라즈마의 이온, 활성기체, 높은 공정온도에 장시간 노출이 되면서 부품 내구성이 떨어져 수명이 낮아지는 문제점이 있다. 부품의 수명을 연장하기 위해서는 내플라즈마성이 강한 산화막 재료를 코팅한다. 하지만 코팅재료의 특성 및 구조에 따라서 플라즈마 공정이 변하여 원하는 공정결과가 구현되지 않음에도 불구하고 산화막 코팅재료 특성이 플라즈마 변수에 미치는 영향에 관한 연구가 많이 이루어지지 않고 있다. 본 연구에서는 알루미늄 산화막 코팅재료 특성에 따른 플라즈마 변수를 진단하여 코팅재료와 플라즈마 변수의 상호관계를 연구하였다. |
| 저자 |
송제범1, 이승수1, 김민중1, 김진태1, 오성근2, 윤주영1
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| 소속 |
1한국표준과학(연), 2한양대 |
| 키워드 |
식각공정; 분사코팅; 아노다이징코팅; 플라즈마진단
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