| 초록 |
케미칼 필터는 반도체 공정 중에 발생 되는 다양한 가스상 오염물질을 제거하기 위하여 클린룸내에 설치된다. 이러한 케미칼 필터는 설치 위치, 공정 설비에 따라 그 적용 형태 및 성능의 차이를 나타낼 수 있다. 그러나 다양한 실공정 적용 환경에서도 일정수준 이상의 성능을 발현시킬 수 있어야 한다. 특히, 케미칼 필터의 주요 소재인 활성탄은 대상 가스의 성질이 산성 또는 염기성에 따라 첨착활성탄의 사용 여부 및 종류가 결정되며, 이에 따라 효과 및 성능이 달라진다. 반면 중성 가스상 오염물질은 활성탄 자체의 기공크기 및 분포 등 기공 특성과 온도, 습도등 공정 환경에 따라 제거 효율에 영향을 받는다. 따라서 이러한 중성 가스상 오염물질을 제거하기 위한 케미칼 필터를 제조하기 위해서는 활성탄의 기공특성 및 대상가스, 공정환경등과의 상관관계를 파악하는 것이 무엇보다는 중요하다. 따라서, 본 연구에서는 다양한 여러종류의 활성탄을 선택하여 각각의 기공특성과 대상가스와의 흡착제거 효율과의 상관관계를 밝히고자 하였다. 이를 위하여 자세히는 톨루엔 및 아세톤, 수분등의 흡착등온 및 파과 실험을 진행하였다. |
