| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (04/25 ~ 04/27, 제주 ICC) |
| 권호 | 18권 1호, p.340 |
| 발표분야 | 분리기술 |
| 제목 | 반도체용 고순도 암모니아 정제시스템 |
| 초록 | 일반적으로 반도체에 사용되는 물질을 제작하기 위해서는 암모니아가 많이 사용되고 있으며 이때 암모니아에 의한 오염을 최소화하기위하여 고순도가 필요하다. 일반적인 공업용암모니아에는 금속물이외에 물이나, 수소, 산소, 일산화탄소, 이산화탄소, 메탄등의 비금속불순물이 포함되어 있고, 반도체 제조등에 사용하기 위해서는 고순도로 정제할 필요가 있다.본 연구에서는 공업용 암모니아를 정제하기 위한 여러가지 흡착제의 특성과 정제시스템에 관하여 고찰하였다. |
| 저자 | 김영덕, 이철우 |
| 소속 | 한밭대 |
| 키워드 | NH3; 정제; 흡착제; TPD |
| 원문파일 | 초록 보기 |
