| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 3 |
RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
| 1 |
반도체 Wet Cleaning Process 조일현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
