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3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma
박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Diffusion effects of surface reaction model under the fluorocarbon plasma
오민주, 박재형, 유혜성, 육영근, 임연호
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Universal surface reaction model for fluorocarbon plasma processes for silicon, silicon oxide, and silicon nitride substrate
오민주, 임연호, 유혜성, 박재형, 육영근
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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3D Feature profile simulation for the oxide etching under the pulsed fluorocarbon plasma
박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
| 8 |
Surface reaction modeling for oxygen effect in fluorocarbon plasma etch process
유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호, 박재형
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
| 7 |
Molecular Dynamic Simulation for Contact Hole Etching Process under Fluorocarbon plasma
육영근, 유혜성, 최광성, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model
육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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Advanced 3D feature profile simulation for realistic plasma etch studies
육영근, 유동훈, 조덕균, 최광성, 임연호, 장원석, 이세아, 천푸름
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process
천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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Large scale feature profile simulation for plasma etch process of high aspect ratio contact hole
육영근, 유동훈, 장원석, 최광성, 조덕균, 천푸름, 이세아, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
