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번호	제목
24	Plasma etching of SiO₂ using perfluoropropyl vinyl ether 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
23	Plasma etching of SiO2 using hexafluoroisopropanol 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
22	Plasma etching of SiO₂ using low-GWP etchants 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
21	Use of heptafluoroisopropyl methyl ether for plasma etching of SiO₂ 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
20	Dependence of SiO₂ etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C₄F₈ plasma 박창진, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
19	Electrostatic effects on the droplet contact charging phenomena 양석환, 임도진 한국화학공학회 2016년 가을 학술대회
18	Charging behavior and electrochemical effect of electrolytes on droplet contact charging phenomena 양석환, 임도진 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
17	Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO₂ etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
16	Etch mechanism of Si₃N₄ in a C₄F₆/Ar/O₂/CH₂F₂ plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
15	Angular dependence of Si₃N₄ etch rates in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회