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Fabrication of Backside-Illuminated CMOS Image Sensor Using 3-D Interconnect Technologies 표성규 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Characteristics of deep Si etching using the advanced Bosch process in PFC- and UFC- containing plasmas 지정민, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Optimization of Deep Si Etching using C4F8/SF6 and C4F6/SF6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
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Investigation of Etch Characteristics of Deep Si Etching in PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 권혁규, 우상호, 김일욱, 김창구 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Polymer Films deposited in PFC- and UFC-containing Plasmas during the Bosch Process 권혁규, 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Fabrication and testing of thin film bulk acoustic wave resonator using deep Si etch process 안영배, 문정현, 이종호, 이재빈, 정학준, 김형준 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Environment-Friendly Plasma Etching of High Aspect Ratio Deep Si 이형무, 박창한, 김창구 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Deep RIE 공정을 이용한 차세대 이동 통신용 멤브레인 구조의 FBAR 제작 안영배, 문정현, 이재빈, 김형준 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |