화학공학소재연구정보센터
번호 제목
6 RF Reactive Sputtering을 이용한 산소 유량 변화에 따른 LiNi0.5Mn1.5O4 박막의 특성 비교
김종헌, 김현석
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
5 Characteristics of Sputtered AlN Buffer Layer as Function of N2 Partial Pressure on Patterned Sapphire Substrate
박준성, 김대식, 정우섭, 조승희, 김철, 변동진
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
4 High-Mobility ZnON Thin-Film Transistors Fabricated By RF Reactive sputtering
김양수, 김현석
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
3 Properties of annealed tin oxide thin films and their homojunction pn diode application
엄요셉, 김사라은경
한국재료학회 2013년 가을 학술대회
2 Study of p-type SnO deposited by low-power RF reactive sputtering
엄요셉, 마준성, 김사라은경
한국재료학회 2013년 봄 학술대회
1 ReRAM 응용을 위한 NiO 박막의 저항 변화 특성|Reproducible Resistance Switching in NiO Films for ReRAM Applications
Jae-Wan Park, Jong-Wan Park, Min Kyu Yang, Kyuho Jung, Dal-Young Kim, Jeon-Kook Lee
한국재료학회 2005년 봄 학술대회