번호 | 제목 |
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RF Reactive Sputtering을 이용한 산소 유량 변화에 따른 LiNi0.5Mn1.5O4 박막의 특성 비교 김종헌, 김현석 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
5 |
Characteristics of Sputtered AlN Buffer Layer as Function of N2 Partial Pressure on Patterned Sapphire Substrate 박준성, 김대식, 정우섭, 조승희, 김철, 변동진 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
4 |
High-Mobility ZnON Thin-Film Transistors Fabricated By RF Reactive sputtering 김양수, 김현석 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
3 |
Properties of annealed tin oxide thin films and their homojunction pn diode application 엄요셉, 김사라은경 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
2 |
Study of p-type SnO deposited by low-power RF reactive sputtering 엄요셉, 마준성, 김사라은경 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
1 |
ReRAM 응용을 위한 NiO 박막의 저항 변화 특성|Reproducible Resistance Switching in NiO Films for ReRAM Applications Jae-Wan Park, Jong-Wan Park, Min Kyu Yang, Kyuho Jung, Dal-Young Kim, Jeon-Kook Lee 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |