화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Surface analysis of N2 plasma treated sapphire substrate for AlN buffer layer  
정우섭, 김대식, 조승희, 김철, 고현아, 이두원, 안민주, 변동진
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
2 Electrical Properties of Pt/Carbon Blacks Catalysts Modified by N2-Plasma Treatment
조미화, 김 석, 이재락, 류호진, 박수진
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
1 CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO2 게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO2 gate dielectrics by N2 plasma treatment for CMOS application
김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동
한국재료학회 2004년 가을 학술대회