| 번호 | 제목 |
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ArF 노광에 의한 MoSiON mask의 Critical Dimension 변화억제 추혁성, 서동완, 오은석, 임상우 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
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Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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SC-1 세정 시 표면처리에 따른 Phase Shift Mask의 Critical Dimension 변화 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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SC1 세정과 Phase Shift Mask의 CD 변화와의 관계 파악 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
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DUV lithography 위상 변위 마스크용 Zr, Hf Oxide의 전자 상태 및 천이 상태 연구|The electronic states and transition state of Zr and Hf oxide as a phase shift maske for DUV lithography 김성관, 김양수, 노광수, 허성민, 최성운, 손정민 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
| 1 |
포토마스크 제조 공정에서의 현상, 습식 식각 및 세정 기술 고찰 손용석, 이철중, 조준식, 정상현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
