| 번호 | 제목 |
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| 5 |
Study on Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction (MTJ) Materials using Reactive Ion Beam Etching (RIBE) for MRAM devices 김예은, 김두산, 김주은, 길유정, 장윤종, 염근영 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
| 4 |
Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas 황수민, 아드리안, 최지현, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 3 |
HBr/Cl2/Ar 가스를 이용한 나노미터 크기의 Magnetic Tunnel Junction의 식각 특성 민수련, 조한나, 노수진, 리유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
| 2 |
Pt 하드마스크를 이용한 Ti 박막의 고밀도 플라즈마 식각 민수련, 조한나, 정지원, 리유에롱 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
| 1 |
Etch characteristics of GeSbTe thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching 박익현, 이장우, 정지원 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
