| 번호 | 제목 |
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Negative Tone Resist Material Based on Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane for 193 nm Lithography Kim, Jin-Baek, Ramakrishnan Ganesan 한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
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Wavelet 변환을 이용하는 여러 가지 잡음 제거 알고리듬의 비교|Comparison of Various Denoising Algorithms Using Wavelet Transformation 백욱진, 강성주, 정창복|Wook-Jin Baek, Sung-Ju Kang, Chang-Bock Chung 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
