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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition of Hf-silicate Gate Dielectrics for Organic Thin Film Transistor Application
이승협, 용기중
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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ALD를 이용한 Hf silciate 박막의 조성에 따른 전기적 특성연구
이동원, 서동찬, 고대홍, 조만호, 김형섭
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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Atomic layer deposition을 이용한 Hf-silicate 박막 증착과 이를 이용한 펜타센 박막 트랜지스터의 성능 향상
이승협, 용기중
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구
이승재, 용기중
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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고집적 메모리 소자 개발을 위한 Hf-silicate 게이트산화막 성장 및 특성 분석
이승재, 용기중
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions
김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Interfacial properties of ultra thin HfxSi1-xO2 films grown by ALCVD using Hf(N(C2H5)2)4 and Si(OC4H9)4 for CMOS application
김재현, 용기중
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films
김재현, 용기중
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Electrical and physical characteristics of MOCVD zirconium and hafnium silicate thin films using new combinations of precursors
김재현, 용기중
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
