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2-Dimentional Perovskite Oxide Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition for High-k Application
Seung Won Lee, Jeong-Hun Choi, Hyo-Bae Kim, Ji-Hoon Ahn
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Comparative Study on the Electrical Characteristics between Gate-First and Gate-Last Like Processed MOS Devices
Hoon Hee Han, Donghwan Lim, Yu-Rim Jeon, Jae Ho Lee, Changhwan Choi
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor
Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Polished & Epitaxial Si Wafer에서 Al2O3 MOS Gate Stack 특성 비교
박유민, 김진서, 서형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Nano Floating Gate Memory by Bi-Nanocrystals Self-Embedded in Bi-based Pyrochlore Dielectrics Grown at Room Temperature
정현준, 허성기, 박종현, 윤순길
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO2 특성
임경택, 이영환, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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Ge표면상의 SAM passivation이 high-k deposition에 미치는 영향
임경택, 박기병, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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In-situ diagnosis of tantalum precursors using Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy
Sukhoon Kim, Moonkyun Song, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Characteristics of SiO2 /Si3N4/SiO2 multilayer Grown by Atomic Layer Deposition for Flash memory applications
박광철, 정광수, 윤원덕, 박종욱, 나사균, 이원준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Deposition of SiO2 Layer in a 300mm Rapid Thermal Process Equipment using Remote Oxygen Plasma
이혜원, 주상래, 서승택, 이광순
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
