| 번호 | 제목 |
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3D Feature profile simulation for oxide etching under fluorocarbon/oxygen mixture plasma 박재형, 유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2 이호석, 양경채, 박성우, 염근영 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 3 |
Realistic and real-time contact hole etch process simulation: 3D-SPEED 육영근, 임연호, 장원석, 유동훈, 최광성, 조덕균, 이세아 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
| 2 |
3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
