| 번호 | 제목 |
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The preferred (200) orientation tetragonal phase of HfO2-Al2O3 thin films by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 문형석, 주대권, 박판귀, 강상원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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The Electrical Characteristics of TiO2/Al2O3/TiO2 nano-laminated thin film by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 주대권, 전우진, 강상원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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제품 생산 기술의 청정도 기술 평가 방법개발|Development of Evaluation Techniques for Cleaness of Products Manufacturing Techniques 박주일,김현종,임정은,김현재,설용건,심진기,류태우,김영운,주대권,이욱준,오민|Park Joo Il,Kim Hyun Jong,Lim Jung Eun,Kim Hyunjae,Shul Yong Gun,Shim Jin Kie,Yu Tae U,Kim Young Woon,Joo Dae Kwon,Lee Uk June,Oh Min 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
