번호 | 제목 |
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13 |
EUV Mask의 내구성 향상을 위한 cleaning chemistry별 표면 특성 연구 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
12 |
Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식에칭기술 연구 정준의, 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
11 |
pMOS gate stack capping layer의 고선택비 습식에칭 기술연구 오지숙, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
10 |
미세 결정질 실리콘 박막의 후처리가 박막의 전기적 특성에 미치는 영향 윤미현, 오지숙, 임경택, 정채환, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
9 |
Ge(111) 표면 수소종단 연구 임경택, 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
8 |
High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구 오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
7 |
포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 DIO3 세정 공정 조건 양자현, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
6 |
Ge 표면상에 생성되는 GeO2 층의 에칭에 관한 연구 임경택, 윤미현, 양자현, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
5 |
PECVD 미세 결정질 실리콘 박막의 광학적 특성 개선 윤미현, 양자현, 임경택, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
4 |
S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO2 특성 임경택, 이영환, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |