화학공학소재연구정보센터
번호 제목
9 고온의 진공상태에서 열화한 반도체 소재 TTIP(Tetraisopropyl orthotitanate) 전구체의 열물성 및 ALD를 사용한 박막의 특성평가
안지혁, 신재수, 안종기, 강고루, 심섭, 김하영, 최은미, 정낙관, 김진태, 윤주영
한국공업화학회 2019년 가을 학술대회
8 반도체 캐패시터 유전막 증착원료(precursor) TEMAHf(Tetrakis-ethylmethylaminohafnium)의 진공에서의 열물성 및 박막특성평가
안지혁, 김하영, 심섭, 강고루, 안종기, 최은미, 정낙관, 김진태, 윤주영
한국공업화학회 2019년 가을 학술대회
7 미래 나노급 반도체 및 대면적 OLED를 위한 증착소재개발의 한계돌파를 위한 복합물성 측정 장비개발
윤주영, 안종기, 심섭, 강고루, 김하영, 김진태, 정낙관, 허훈, 허규용
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회
6 The effect of HfO2 Films using Atomic Layer Deposition in accordance with thermal decomposition temperature of Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium [TEMAHf]
오남근, 안종기, 강고루, 김소연, 김진태, 윤주영
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회
5 QMS 신호의 FFT와 Histogram 분석을 이용한 Al2O3 ALD 공정진단
강고루, 윤주영, 안종기, 오남근, 남민우
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회
4 Measuring liquid and vapor composition of mixed precursors for ALD of ZrO2 doped with Al using distillation method
안종기, 심섭, 강고루, 오남근, 김진태, 함성호, 윤주영
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회
3 염료감응태양전지( DSSC) 효율 개선을 위한 ALD를 이용한 Tio2 광전극 표면 처리 연구
안종기, 윤주영, 강고루, 차덕준, 김진태
한국공업화학회 2013년 봄 학술대회
2 Termal Property of TEMAZ for Atomic layer deposition
안종기, 차덕준, 김진태, 윤주영
한국공업화학회 2012년 가을 학술대회
1 염료감응 태양전지의 Core-Shell ALD 공정을 위한 전구체(TMA) 열적 안정성 평가
안종기, 차덕준, 김진태, 강상우, 윤주영
한국공업화학회 2012년 봄 학술대회