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Multi-directional plasma etching using a Faraday Cage
이승행, 민재호, 이진관, 장일용, 문상흡
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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Atomic scale etching of poly-Si in inductively coupled Ar and He plasmas
김태호, 민재호, 문상흡, 윤형진, 신치범, 김창구
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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고밀도 CHF3 플라즈마 식각에서 바이어스 전압과 이온의 입사각에 따른 photoresist의 식각 속도와 SiO2에 대한 식각 선택도의 변화
강세구, 민재호, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Angular distributions etch products from the bottom substrate in fluorocarbon plasmas
이진관, 이겨레, 민재호, 문상흡
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF6, C4F8, and O2 plasmas for advanced Bosch process
민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching
민재호,황성욱,이겨레,문상흡|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
