| 번호 | 제목 |
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대기압 PECVD법에 의해 증착된 SiOx 박막의 특성 연구|A study on SiOx film by PECVD at atmospheric pressure 김선애, 김윤기 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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X-선 회절법을 이용한 질화층의 Fe3N상과 Fe4N 상의 분율 해석|Phase analysis of iron-nitride (Fe3N and Fe4N) using x-ray diffraction 김선애, 김윤기, 김상권, 김성완, 김영국 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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대기압 배리어 방전을 이용한 포토레지스트 에싱|Atmospheric pressure dielectric barrier discharge processing for photoresist ashing 이수빈, 김선애, 심연근, 김윤기 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
