화학공학소재연구정보센터
번호 제목
15 Tripropylsilane의 기상 화학 증착법에 의한 다공성 알루미나를 담지한 SiC 분리막의 제조와 고온에서의 가스 투과 선택도|Preparation of SiC Membrane on Porous Alumina Support Tube by CVD of Tripropylsilane and Its Elevated-Temp. Gas Permselectivity
MOROOKA|MOROOKA
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
14 Tetrakis (dimethylamido) titanium을 이용한 TiN 유기금속 화학증착에서의 기상반응에 대한 연구|Study on the Gas Phase Reaction in Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of TiN
윤주영, 박만영, 이시우|Ju-Young Yun, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
13 금속 유기물 화학 증착 공정의 화학 반응 기구에 대한 실험적 관찰|Monitoring of Decomposition Behavior of Metal Oxide Precursors in Chemical Vapor Deposition
정찬화, 조성일, 문상흡|Chan-Hwa Chung, Sung-Il Cho, Sang Heup Moon
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
12 SiC/C비 조절에 의한 증착층 변화|Phase Deposition layers depending on SiC/C Ratios
정순득, 이성철, 김유택|Soon-Deuk Jung, Sung-Chul Yi, Yootaek Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
11 CVD에 의한 YSZ 박막의 제조|Preparation of YSZ Thin Films by CVD
김기동, 전진석, 최동수|K.D.KIM, J.S.Jeon, D.Choi
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
10 CVD법을 통하여 Si 기판에 Y계 초전도 박막의 제조|Preparation of Y-System Superconducting Thin Films on Si substrate by Chemical Vapor Deposition
양석우, 김영순, 이영민, 박정식, 조익준, 신형식|Suk-Woo Yang, Young-Soon Kim, Young-Min Lee, Jeong-Shik Park, Ik-Joon Cho
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회
9 액상함침전법에 의한 다공성 알루미나 지지체 내에서의γ-Al2O3막 제조 연구|Formation of γ-Al2O3 membranes in the pores of alumina support using an imprecipitation method
안상열, 하흥용, 남석우, 홍성안|S.Y.Ahn, H.Y.Ha, S.W.Nam, S.A.Hong
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회
8 ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회
7 LPCVD로 성장된 Ta2O5 박막 및 커패시터 특성|Thin film capacitors of Ta2O5 grown by LPCVD
최영석, 조성민|Young-Suk Choi, Sung Min Cho
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회
6 열CVD법에 의한 Silocon tetraacetate로 부터 Silicon dioxide 박막합성|A Study on the Preparation of Silicon dioxide Thin film from Silicon tetraacetate by the thermal CVD
김용석, 신형식, 문희, 박흥철|Yong-Seok Kim, Young-Sik Shin, Hee Moon, Heung-Chul Park
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회