| 번호 | 제목 |
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CMP 슬러리의 제조 - 콜로이드 화학과 재료의 관점|Preparations of CMP slurry - Colloid chemistry and material aspects 소재현,김남수,임영삼,강경문,이동준|Jae-Hyun So,Nam-Soo Kim,Young-Sam Yim,Kyung-Moon Kang,Dong-Jun Lee 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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실리콘의 건식식각에서 Microtrench의 생성 메카니즘|Formation Mechanism of Microtrench in Dry Etching of Silicone 임연호,한윤봉|Y. H. Im,J. S. Park,Y. B. Hahn 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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Level Set 방법을 이용한 GaN 식각 프로파일 모사|Simulation of GaN Etched Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method 임연호, 박진수, 최창선, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Chang Sun Choi, Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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Level Set 방법을 이용한 고밀도 플라즈마 식각 프로파일 모델링|Mathematical Modeling of Etched Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method 임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Lim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
| 1 |
구리 전착에서 첨가제들과 전류 파형에 대한 효과|Effects of Additives and Current Waveform in Copper Electroplating 노태근, 김재홍, 탁용석|Tae-Geun Noh, Jae-Hong Kim, Yongsug Tak 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
