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Atomic layer deposition of nitrogen doped ZnO and application for highly sensitive coreshell nanowire photo detector
정한얼, 강혜민, 천태훈, 김수현, 김도영, 김형준
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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The effects of RF power on remote plasma atomic layer deposited Al2O3 passivation layer to improve the electrical stability of IGZO TFTs
Youngbin Ko, Seokhwan Bang, Seungjun Lee, Joohyun Park, Hagyoung Choi, Jaehun Ryu, Kiyeol Ham, Seokyoon Shin, Jihoon Kim, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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New Fabrication Methods of Nanostructural Materals Using Atomic Layer Deposition and Soft Lithography
성명모
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
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HIGH-THROUGHPUT PROCESS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION
Woong-Chul Shin, Kyu-Jeong Choi, Min Baek, Miry Kim
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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Fabrication and characteristics of remodeled titanium dioxide bilayer on ITO coated glass for highly efficient Dye-Sensitezed Solar Cells
박경혜, 오철, 오성근
한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
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Nucleation Characteristics of Tellurium during Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD)
석경석, 정하나, 임경택, 김도형, 우희권
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Photocatalytic characterization of the TiO2 fabricated by atomic layer deposition using TDEAT and H2O2
석경석, 임경택, 김연홍, 정 훈, 김도형
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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Atomic layer deposition of TiO2 thin films using NH3 gas as a non-oxidizing reactant gas.
권세훈, 김성욱, 강상원
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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CVD/ALD process monitoring system (1) (The development of the equipments for precursor monitoring)
강상우, 윤주영, 이지훈, 문두경, 성대진, 신용현
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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CVD/ALD process monitoring system (2)(The evaluation of a precursor using FT-IR spectroscopy, thermal analysis, and the deposition chamber)
강상우, 윤주영, 성대진, 신용현, 이시우, 송문균
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
