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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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탄소나노물질을 이용하는 CDI 공정의 모델링
전상훈, 신치범, 이기택, 서동진, 조원일, 조병원
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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반도체세정 기술개발 정책|반도체세정 기술개발 정책
안동준, 최근민
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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광택니켈 도금폐수의 유가성분 재활용 기술 연구
이창환, 이철호
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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Ag코팅한 RO막에 의한 biofouling 제거 및 항균 효과
고상범, 김성주, 김남진, 김영채, 배성렬, 문세기
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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실관막모듈을 이용한 중금속의 제거효율
최대웅, 박준성
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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중금속염 혼합용액에서 Cd(Ⅱ)추출 및 물질전달|A Study on Mass Transfer and Extraction of Cd(Ⅱ) from Other Heavy Metals Salts Mixed Solution by using a Hollow Fiber Contactor
최대웅,박준성|Dae-Woong Choi,Jun-Sung Park
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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방사선 그라프트 중합법에 의해 제조된 술폰산형이온교환막의 금속이온 흡착|Adsorption of Metal ion using a Sulfonic acid ion-exchange Membrane by radiation induced graft polymerization
정금련, 김민|Keum-Ryun Jung, Min Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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혼합층 이온교환을 이용한 Nitrate와 Ammonium의 동시 제거|Nitrate and Ammonium Removal by Mixed-bed Ion Exchange
이창원, 김원규, 윤태경, 노병일, 문병현, 이강춘|ChangWon Lee, Wonkyu Kim, Tae-Kyung Yoon, Byeong-Il Noh, Byung-Hyun Moon, Gangchoon Lee
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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초저이온 농도에서 혼합층 이온교환거동에 대한 아민 첨가의 영향|The Effect of Amine Additives on Performance of Mixed-bed Ion Exchange at Ultralow Ionic Concentration
이창원, 윤태경, 김진순, 박판욱, 노병일, 문병현|Chang-Won Lee, Tae-Kyung Yoon, Jin-Soon Kim, Pan-Wook Park, Byeong-Il Noh, Byung-Hyun
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
