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Preparation of ceria fine particles with high crystallinity by using various supercritical fluids
이은용, 이창하, 임종성, 이윤우
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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구리박막의 전기화학적 연마공정에서 pH 및 potential의 영향에 관한 연구
박경순, 오윤진, 정찬화
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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기계·화학적인 연마에서 슬러리의 특성에 따른 나노토포그래피의 영향과 numerical 시뮬레이션|Effect of Slurry Characteristics on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing and Its Numerical Simulation
Takeo Katoh, Min-Seok Kim, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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STI CMP용 나노 세리아 슬러리의 Non-Prestonian 거동에서 연마 입자의 크기와 계면활성제의 농도가 미치는 영향|Effects of Abrasive Size and Surfactant Concentration on the Non-Prestonian behavior of Nano-Ceria Slurry for STI CMP
김성준, Takeo Katoh, 강현구, 백운규, 박재근
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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STI CMP용 나노 세리아 슬러리에서 연마입자의 결정특성에 따른 평탄화 효율의 의존성|Dependency of Planarization Efficiency on Crystal Characteristic of Abrasives in Nano Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Hyun Goo Kang, Takeo Katoh, Sung Jun Kim, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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알칼리 용액에서의 전기 화학 연마 공정에 의한 구리박막 평탄화에 관한 연구
박경순, 오윤진, 정태우, 김일욱, 백종성, 정찬화
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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Effect of Molecular Weight on Microstructures and Properties of Bridged Poly(methyl silsesquioxane) Copolymers
민성규;이진규;윤도영;이희우
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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CMP 슬러리의 제조 - 콜로이드 화학과 재료의 관점|Preparations of CMP slurry - Colloid chemistry and material aspects
소재현,김남수,임영삼,강경문,이동준|Jae-Hyun So,Nam-Soo Kim,Young-Sam Yim,Kyung-Moon Kang,Dong-Jun Lee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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구리의 화학,기계적 연마용 실리카 슬러리의 안정화에 관한 유변학적 연구|Rheological Study on the Stabilization of the Silica Slurry for Copper CMP
최영훈,배선혁,양승만,김도현|Young Hoon Choi,Sun Hyuk Bae,Seung-Man Yang,Do Hyun Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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수소 식각과 CMP 공정에 의한 on-axis 6H-SiC 표면의 step 형성연구|Step Formation on on-axis 6H-SiC surface using H2 Etching and CMP Processes
이경선,김광철,노재일,이승현,남기석|Kyung-Sun Lee,Kwang Chul Kim,Jae Il Noh,Seung Hyun Lee,Kee Suk Nahm
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
