화학공학소재연구정보센터
번호 제목
22 수처리용 분리막 관련 기술의 특허출원동향
장낙용
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
21 오존수를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마 후 지용성 왁스 제거 효율 및 습식 세정 공정의 최적화에 관한 연구
이재환, 이승호, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
20 I2 촉매 변화에 따른 Aluminum iso-propoxide의 수율 변화 및 특성 평가
이범석, 정재식
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회
19 Cleanliness Evaluation of Electronic Parts Using Ozonized DI Water Rinse System
하순효, 한종필, 이병철, 최진열, 강두환
한국공업화학회 2007년 봄 학술대회
18 초저이온농도에서 혼합층이온교환기의 실리카제거능에 대한 유입수의 농도 및 유속의 영향
노병일, 윤태경, 이강춘
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
17 과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가
이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
16 The effects of electrodeposition mode on the surface morphology and crystal structure of copper electrodeposition.
우태규, 설경원, 박일송, 우경녕, 이현우
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
15 리그닌 첨가에 의한 시멘트 특성 개선
박준석, 김승호, 박영구, 심재홍, 조영민
한국공업화학회 2006년 가을 학술대회
14 RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
13 세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회