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Ultralarge-area block copolymer lithography using self-assembly assisted photoresist pre-pattern 진형민, 김상욱 한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Vapor-phase deposited conducting polymeric films and their applications 임성갑 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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HybridBlock Copolymer Lithographyfor UltraLarge Area PatterningCombined withDisposable Photoresist Prepatterning 김주영, 정성준, 문형석, 김봉훈, 김상욱 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Vapor-phase deposited conducting polymeric films and their applications 임성갑 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
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ILD CMP 공정에서 실리콘 산화막의 기계적 성질이 Scratch 발생에 미치는 영향 조병준, 권태영, 김혁민, 박진구 한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발 배진성, 오지숙, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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Self-Organization and Phase Separation for Patterned Structures 정운룡, 박민우, 박추진, 현동춘 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Effects of nitrogen reactive gas on PEALD TaNx diffusion barrier for Cu interconnect 박재형, 문대용, 한동석, 신새영, 박종완 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Directed Assembly of Block Copolymer via Soft-Graphoepitaxy 정성준, 문형석, 김주영, 김봉훈, 김상욱 한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
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Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식에칭기술 연구 정준의, 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |