| 12 |
Plasma Power Effect on Carbon Nanotube Growth in Tubular Inductively Coupled Plasma Reactor
이재원, 채희엽
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
| 11 |
Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Recovery of Electrical Properties by Surface Treatment after Mesa Etching in InGaN/GaN Multiple Quantum Well Light Emitting Diodes
강형곤, 최락준, 한명수, 윤창주, 한윤봉
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
| 7 |
고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application
임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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Level set 방법을 이용한 실리콘 식각 프로파일 모사|Simulation of Silicon Etch Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 식각공정에서 기판 온도상승에 관한 연구|Wafer Heating Effects during High Density Plasma Etching
임연호, 최창선, 김태희, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Tae Hee Kim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas
최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas
한윤봉|Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
