| 10 |
매체교반형 미분쇄기에 의한 무기분말의 초미분쇄기구와 분쇄장 표면개질에 관한 연구(7) : 분쇄효율의 고찰|The Ultra-fine grinding Mechanism of Inorganic Powders and Surface Modification in a Grinding Media Agitated Mill (7) :Consideration of Grinding Energy Efficiency
최희규, 최우식|Hee Kyu Choi, Woo Sik Choi
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
| 9 |
고분자/CO2현탁액의 급속팽창에 의해 형성된 에멀션|Emulsions Formed by Rapid Expansion of Polymer/CO2 Suspensions
심재진, Keith P. Johnston|Jae-Jin shim, Keith P. Johnston
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
| 8 |
Display Shadow Mask의 식각 공정에 관한 연구|Studies on the Etching Process of Display Shadow Mask
윤덕선, 이근우, 박진호|Deoksun Yoon, Gunwoo Lee, Chinho Park
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
| 7 |
초임계 탄산가스를 이용한 유기화합물의 GAS 결정화|GAS Crystallization of Organic Compound Using Supercritical Carbon Dioxide
김영신, 신창택, 김영삼, 김선욱|Young-Shin Kim, Chang-Taek Shin, Young-Sam Kim, Sunwook Kim
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
| 6 |
고분자 현탁액의 관흐름에서 입자이동에 관한 연구|Particle migration model for the pipe flow of suspensions
한민수, 김종엽, 이순칠|Minsoo Han, Chongyoup Kim, Soonchil Lee
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
| 5 |
초임계 유체를 이용한 분산염료의 재결정화|Recrystallization of Disperse Dye Using Supercritical Fluid
김영삼, 김호경, 김성렬, 김진환, 김선욱|Y.-S. Kim, H.-K. Kim, S.-R. Kim, J.-H. Kim, S. Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
| 4 |
자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
| 3 |
알루미나-탄화티타늄 복합체 방전가공의 수치해석|Numerical Analysis of the Electro-discharge Machining Process for Alumina-Titanium
안영철, 정영습, 윤존도, 왕덕현|Young-Cheol Ahn, Young-Seup Chung, Jondo Yoon, Duck-Hyun Wang
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
| 2 |
실란 PCVD 반응기에서 공정 변수 조건에 따른 입자 거동|The Movements of Particles in Silane PCVD Reactor for Various Process Conditions
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
| 1 |
Laser Interferometer를 이용한 비결정성 고분자필름의 용해속도측정|Measurement of dissolution rate of polymer flim using laser interferometer
공배수, 김덕준|Bae Soo Kong, Duk-joon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
