| 25 |
UV absorbing silsesquioxane spheres prepared by internally catalyzed condensation
임미선, 윤경섭, 김영백
한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
| 24 |
광 반응에 따른 고분자 필름의 굴절률 및 구조 변화 연구
신미영, 조정환, 송기국
한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
| 23 |
Negative Tone Resist Material Based on Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane for 193 nm Lithography
Kim, Jin-Baek, Ramakrishnan Ganesan
한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
| 22 |
Mechanical properties of polyimide/polysilsesquioxane (PI/PSSQ) hybrid films with meso/macro double porous structure
안준현, 김경일, 이준영, 김중현
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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The Synthesis and physical properties of UV curable silsesquioxane with acyrlic functional group
마성원, 이항석, 황승상, 홍순만, 이응찬, 김광웅, 한학수
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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The Synthesis and Physical Properties of Fluorinated Polysilsesquioxanes with Highly Regulated Structure
마성원, 이항석, 황승상, 홍순만, 이응찬, 김광웅, 한학수
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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X-ray specular reflectivity studies of nanoporous methylsilsesquioxane films
황용택, 오원태, 박영희, 이병두, 이문호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
| 18 |
Transmission SAXS and GISAXS studies on the low-k thin films
이병두, 오원태, 황용택, 이문호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Resists based on polysilsesquioxane for 157-nm lithography
김진백, 최보윤
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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High-Strength Polysilsesquioxanes for Nanoporous Low-Dielectric Films
노현욱, 김진범, 이진규, 이희우, 차국헌, 윤도영, David W. Gidley
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
